光刻胶

MEMS器件设计工艺如何进一步优化

在通过设备改进提高晶圆相关性能的同时，晶圆厂还必须优化其工艺流程，以提高可靠性、产量和产量。新流程的开发可能需要多个构建和测试周期，因此时间和金钱成本相对较高。MEMS器件设计可以作为工艺优化的第一步。 MEMS器件设计过程的第一步是输入材料特性和工艺描述。然后通过导入MEMS布局或组合MEMS组件库的参数元素来创建设备模型。 用户可以通过结合先进的有限元素或特定于MEMS的基本组成元素来实现完整的设计。创建设备模型后，可导入系统进行仿真试验。然后，MEMS器件设计的降级模型可以导入环境执行系统...