扩充业务产品线，中微公司推出12英寸薄膜沉积设备
近日，中微公司推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积（LPCVD）设备Preforma Uniflex™CW。
图片来源：中微公司
据介绍，Preforma Uniflex™ CW可灵活配置多达五个双反应台反应腔（十个反应台），每个反应腔可以同时加工两片晶圆，在保证较低的生产成本和化学品消耗的同时，实现更高的生产效率。
Preforma Uniflex™ CW配备了完全拥有自主知识产权的优化混气方案及加热台, 具有薄膜均一性、填充能力和工艺调节灵活性，对于弯曲度较大的晶圆，它也具备良好的工艺处理能力。
此外，该设备还具有优异的阶梯覆盖率和填充能力，可以满足先进逻辑器件、DRAM和3D NAND中接触孔以及金属钨线的填充应用需求。
据悉，中微公司主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售，业务涉及半导体集成电路制造、先进封装、LED外延片生产、功率器件、MEMS制造以及其他微观工艺的高端设备领域。
Mini/Micro LED方面，中微公司主打产品mocvd设备在新一代MiniLED产业化中，在蓝绿光LED生产线上取得了绝对领先地位；用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备目前已交付国内外客户进行生产验证，并取得重复订单。
2022年3月，中微公司收到兆驰股份52腔Prismo Unimax™MOCVD设备采购订单；同年10月，中微公司宣布全球第500台MOCVD设备付运国内LED外延片和芯片研发生产制造商，该设备同样是Prismo UniMax™。
中微公司表示，此次推出LPCVD新产品，在等离子体刻蚀设备和MOCVD设备的基础上，进一步拓展了公司的产品线布局，也增强了半导体设备的自主可控性。未来公司也将坚持三维发展战略，推出更多自主设计的半导体设备。
发表评论