中微：MOCVD设备毛利率提升，未来聚焦Mini/MicroLED领域

3月1日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（简称"中微公司"）发布了投资者关系活动记录表，向投资者透露了公司刻蚀产品和 mocvd产品等业务近况。

2021年，中微公司营业收入 31.08 亿元，其中刻蚀设备收入为 20.04 亿元，占收入比例约为 64.48%；MOCVD设备收入为 5.03 亿元，占收入比例约 为 16.18%。而2021年新签订单 41.3 亿元，同比增长 90.5%，其中以刻蚀产品为主。

产品交期方面，中微公司的半导体刻蚀产品、MOCVD设备在 2021 年保持准时交付，而目前刻蚀设备交期较过去有所延长。

值得一提的是，中微公司于2021年6月发布Prismon UiMax™ MOCVD设备，用于氮化镓基MiniLED外延片量产。截至2021年12月9日， Prismo UniMax™ MOCVD设备订单超过100腔，毛利率有较大幅度的提升。对此，中微公司表示，新款MOCVD设备Prismo UniMax™ 主要针对 miniled 设计，性能、复杂性显著提高，可为客户提供更多的价值，因此毛利率有明显增长。

对于MiniLED市场前景与公司相应布局，中微公司指出，2021年以来，MiniLED在电视机领域取得了良好应用，在显示器、笔记本、平板等领域，MiniLED 产品也不断诞生并开始批量出货。未来，公司 MOCVD设备的销售也将以 MiniLED（背光领域）和 Micro LED（直显领域）设备为主。

刻蚀设备业务方面，中微公司积极关注下游市场扩产计划并努力争取各种市场机会。目前，刻蚀设备在国内主要客户端市场占有率不断提升。在逻辑集成电路制造环节，公司开发的 12 英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户 65 纳米到 5 纳米等先进的芯片生产线上。

薄膜设备方面，中微公司透露，目前已经组建团队在开发LPCVD设备和 EPI 设备，研发进展按计划进行中，同时公司将在适当时机通过并购等外延式成长途径扩大产品和市场覆盖。

对于公司南昌基地和临港基地建设进展情况，中微公司透露，南昌基地和临港基地建设进展按照公司既定计划正常进行中。其中，南昌基地目前厂内主要道路已施工完毕，各主要单位建筑均已封顶。临港产业化基地于 2021 年 6 月 20 日举行开工仪式，规划总建筑面积约 18 万平方米，现已封顶。

据了解，中微南昌基地目总投资约10亿元，总建筑面积约14万平方米，项目总投资约10亿元，基地用于MOCVD（有机金属化学气相沉积）装备研发、制造及创新中心。中微临港基地项目总投资约15亿元，项目建成可满足集成电路、泛半导体设备的研发、测试和产业化需求。